日本microphase石墨烯合成設備MPCVD-50

訪問次數：2363

更新日期：2025-05-02

簡要描述：

日本microphase石墨烯合成設備MPCVD-50
用于碳納米管的合成、碳成膜、納米陶瓷成膜、氮化、硫屬化物成膜等。

品牌	其他品牌	燃料	電加熱鍋爐
結構形式	立式	出口壓力	高壓

日本microphase石墨烯合成設備MPCVD-50

用于碳納米管的合成、碳成膜、納米陶瓷成膜、氮化、硫屬化物成膜等。

目的：	用于合成碳納米管、在粉末樣品上沉積碳膜以及各種 CVD 膜沉積的通用管式爐型熱 CVD 設備。通過增加氨氣、各種CVD反應氣體、升華固體前驅體、液體前驅體的引入單元，可應用于氮化、硫屬化物（二硫化鉬MoS2等）層狀材料沉積等。
特征：	配備液體燃料（乙醇）引入系統，可用于無法安裝烴類氣體的場所。　3系統質量流量氣體流量控制系統，可以進行精確的氣體控制。　真空排氣系統是標準設備，可用作真空爐或氣氛爐。　緊湊而堅固的外殼設計，易于安裝在桌面實驗室工作臺上。　高度可擴展且易于處理任何類型的處理。

LIB電池用Si負極材料上的碳涂層

二硫化鉬薄膜

長 CNT/Si 的 SEM 圖像

粉末狀 CNT 的 SEM 圖像

日本microphase石墨烯合成設備MPCVD-50

主要規格

国产精品怕怕怕免费视频,国产亚洲精品a在线看。,国产精品喷浆视频一区二区,97精品国产高清自在线